Minimal foundry

半導体デバイスの試作用途に

半導体製造工程に革新をもたらしたミニマルファブ構想。
国立研究開発法人 産業技術総合研究所(産総研つくば)主導で始まったプロジェクトの一員として、私たちはミニマル マスクレス露光装置の研究開発に携わっています。
2015年にはミニマル装置群を並べた“ミニマルファウンドリ”を本社建屋内に開設し、受託による試作開発を行っています。

ミニマル マスクレス露光装置とは

従来のフォトリソグラフィでは、フォトマスクの製作に莫大な費用と時間、そして広大な設備が必要とされていました。
ミニマル マスクレス露光装置は、DMDと呼ばれる表示素子を使用した直接描画を行うため、半導体試作プロセスのサイクルタイム短縮に大きく貢献します。

ミニマル マスクレス露光装置の詳細はこちら

ミニマルファウンドリとは

ミニマル装置群によるフォトリソグラフィラインと、メガファブによる成膜ラインとのハイブリッドプロセスにより、1チップから半導体デバイスの試作受託製造サービスを行います。
2015年には、国立産業技術総合研究所以外の私企業としては世界初となる、ミニマルファブプロセスを使用したデバイスの試作に成功しました。

試作に成功した
GaN青色LED
Fan Out Wafer
Level Package

PMTミニマルフォトリソグラフィプロセス

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