ミニマル マスクレス露光装置
省コスト・省作業・省スペース！「省の極み」で半導体試作プロセスを革新します！
DMDと呼ばれる表示素子を使用し、ステージと完全同期されたON/OFF制御によってウェハ上にパターンを直接描画します。
焦点合わせやアライメントを全自動化し、スタートボタンを”押すだけ”の手軽さを追求。シンプル操作で、オペレータへの負担を大きく軽減しました。
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| ▲レジストへの露光事例 | |
| 1.0µm L/S （1:1） | 0.5µm L/S （1:1） |
■装置仕様
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| 寸法 | W294×D450×H1,440mm |
| 基板 | 0.5インチミニマルウェハ |
| 露光方式 | スキャン露光方式 |
| 光源 | LED（h線：λ=405nm） |
| 最小画素 | 保証1.0µm(L/S) |
| 消費電力 | 300W |
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用途一覧
半導体デバイスの試作（少量多品種向け）
092-933-3110
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