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ミニマル マスクレス露光装置

省コスト・省作業・省スペース!「省の極み」で半導体試作プロセスを革新します!

DMDと呼ばれる表示素子を使用し、ステージと完全同期されたON/OFF制御によってウェハ上にパターンを直接描画します。
焦点合わせやアライメントを全自動化し、スタートボタンを”押すだけ”の手軽さを追求。シンプル操作で、オペレータへの負担を大きく軽減しました。

▲厚膜レジストへの露光事例
1.0µm L/S (1:1) 0.5µm L/S (1:1)

 

■装置仕様
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W294×D450×H1,440mm
0.5インチミニマルウェハ
露光方 スキャン露光方式
LED(h線:λ=405nm)
最小画 保証1.0µm(L/S)
消費電 300W

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minimal

用途一覧

半導体デバイスの試作(少量多品種向け)

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