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マスクレス露光装置[PLS-3000]

DMDによる直接描画で半導体デバイス試作のサイクルタイムを大幅に削減!最大12インチウェハに対応します!

DMDと呼ばれる表示素子を使用し、ステージと完全同期されたON/OFF制御によってウェハ上にパターンを直接描画します。
フォトマスクの試作にかかる時間や費用が不要になるため、半導体デバイスの試作を効率化することが可能です。

▲厚膜レジストへの露光事例
1.0µm L/S (1:1) 0.5µm L/S (1:1)

 

■装置仕様
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W2,000×D1,000×H2,000mm
Max.□300mm
露光方 スキャン露光方式
LED(h線:λ=405nm)
最小画 0.5µm
重ね合わせ精度 ±0.5µm以内
露光能 360mm²/min(標準描画時)

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PLS-3000

用途一覧

半導体デバイスの試作(少量多品種向け)

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