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小型NC微細加工機
プロジェクション描画装置| 部品製作・加工 |
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描画サンプル（MEMS用途） |
マイクロカンチレバー |
ギアパターン |
ピエゾ電極パターン |
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装置 / システム仕様・特徴（フォトマスク・半導体向け構成） |
| 装置仕様（12インチ対応モデル） | |
| 本体寸法 | 2,100（幅）×1,500（奥）×2,000（高） |
| 重量 | 1,600kg |
| 対応基板サイズ | 12インチ ウェハ / ガラスマスク |
| 対応基板厚さ | 〜8mm |
| 描画最小寸法 | 1μm |
| 線幅ユニフォーミティ | 35nm以下（3σ） |
| 描画速度 | 600mm2/min（100×100mmを約20分） |
| オンライン描画データ転送機能 描画光量ノーマライズ機能 スキャン垂直方向ゆらぎ補正機能 レンズ偏差キャリブレーション機能 描画時パターンモニタリング機能 | |
| ソフトウェア |
| 描画パターン作製 / 制御用プラットフォーム 各種データ変換 モニタリング / キャリブレーション |
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システム構成図 |
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描画サンプル（円弧パターン）描画方式：ステップ＆スキャン描画 |
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