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 プロジェクション描画装置
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営業担当の徳田です。
本装置は、DLPを使用したマスクレス描画装置です。
コンセプトは、”早い・安い・高精度”です。
（描画速度が）
早い |
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描画方式がステップ＆スキャン方式のため、
100mm×100mmの範囲を約20分で描画。 |
（装置価格が）
安い |
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ステッパーや電子線描画装置と比べ、
数分の一〜数十分の一。 |
（描画結果が）
高精度 |
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描画分解能・0.5um、接合精度・±0.5um以下、
重ね合わせ精度・±1um以下を実現。 |
汎用CADで設計した描画データをウェハーに直接描画を行います。
描画データはDXF、CIF、GDSII、Gerber、BMPなど各種フォーマットに対応しており、本装置でマスクを作成する事も可能です。
光源にはLED（波長405nm）を採用しています。
その為、水銀ランプを使った装置のように光源の寿命の心配が無くなりますので、装置のダウンタイムやランプ交換のコストを極限まで圧縮出来ます。
描画範囲は、最大300×300mmです。
ステージの基本材料は高剛性ファインセラミックスを、ガイドには静圧ガイド（エアスライド）を採用していますので、経年変化に強く、長期に渡り装置の安定運用を実現します。
是非一度、当社へご相談下さい。 |
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マイクロカンチレバー
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ギアパターン
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ピエゾ電極パターン
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装置 / システム仕様・特徴（フォトマスク・半導体向け構成） |
| 装置仕様（12インチ対応モデル） |
| 本体寸法 |
2,100（幅）×1,500（奥）×2,000（高） |
| 重量 |
1,600kg |
| 対応基板サイズ |
12インチ ウェハ / ガラスマスク |
| 対応基板厚さ |
〜8mm |
| 描画最小寸法 |
1μm |
| 線幅ユニフォーミティ |
35nm以下（3σ） |
| 描画速度 |
600mm2/min（100×100mmを約20分 |
オンライン描画データ転送機能
描画光量ノーマライズ機能
スキャン垂直方向ゆらぎ補正機能
レンズ偏差キャリブレーション機能
描画時パターンモニタリング機能 |
| ソフトウェア |
描画パターン作製 / 制御用プラットフォーム
各種データ変換
モニタリング / キャリブレーション |
描画サンプル（円弧パターン）描画方式：ステップ＆スキャン描画 |
| ≪研究先リンク≫ |
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小型NC微細加工機
