プロジェクション描画装置
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マスクレス露光装置
マスクレスでデバイス試作の費用と時間を大きく削減します
部品製作・加工
システム商品・装置

マスクレス露光装置(PLS-3000)

装置プロモーションビデオ

高精度・低価格・低ランニングコスト・マーク認識&重ね合わせ描画・レチクル/ウェハ共用のプロジェクション描画装置
製品のご紹介
本装置は、DLPを使用したマスクレス描画装置です。
コンセプトは、”早い・安い・高精度”です。
(描画速度が)
早い
描画方式がステップ&スキャン方式のため、 100mm×100mmの範囲を約10分で描画。
(装置価格が)
安い
ステッパーや電子線描画装置と比べ、 数分の一〜数十分の一。
(描画結果が)
高精度
描画分解能・0.5um、接合精度・±0.5um以下、 重ね合わせ精度・±1um以下を実現。

汎用CADで設計した描画データをウェハーに直接描画を行います。
描画データはDXF、CIF、GDSII、Gerber、BMPなど各種フォーマットに対応しており、本装置でマスクを作成する事も可能です。

光源にはLED(波長405nm)を採用しています。
その為、水銀ランプを使った装置のように光源の寿命の心配が無くなりますので、装置のダウンタイムやランプ交換のコストを極限まで圧縮出来ます。

描画範囲は、最大300×300mmです。
ステージの基本材料は高剛性ファインセラミックスを、ガイドには静圧ガイド(エアスライド)を採用していますので、経年変化に強く、長期に渡り装置の安定運用を実現します。

是非一度、当社へご相談下さい。

描画サンプル(MEMS用途)

電極パターン

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単独線

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スカイツリー

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日本地図

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≪研究先リンク≫
大阪大学産業科学研究所
産業科学ナノテクノロジーセンター ナノテク先端機器室